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世界トップクラスの微細加工技術

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直接描画による波形状

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ハイアスペクトプロセス

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電子ビームによるナノパターン描画

微細ドットアレイ.jpg

微細ドットアレイプロセス

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モスアイ受託製造

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マイクロレンズアレイ

材質:Si、Ni

寸法:W300nm Pitch 1um

​パターンエリア:~□50㎜

材質:Si

最小線幅:50nm

​パターンエリア:□2.5um

材質:Si

寸法:Pitch 250nm / H 600nm

​パターンエリア:□20mm

材質:Si

寸法:W5.5um / Pitch 10um / H67um

材質:SiO2

​寸法:φ30nm / Pitch 50nm / H 30nm

材質:レジスト, Ni等

寸法:Radius 15um / Depth 15um

​【ご提供:国立研究開発法人 物質・材料研究機構】

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Technology of Bush Clover
​ブッシュクローバーの技術

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電子ビーム(EB)描画

Wave pattern-02.tif

φ8inナノスケール描画

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超微細機械加工

再帰反射形状.jpg

レーザー描画

motheye_i008 (1).jpg

​複合技術によるプロセス開発

IMG_5908.JPG

成型受託加工

Access

Bush Clover Co., Ltd.

 

〒194-0013

4-20-18 Haramachida, Machida, Tokyo

Estate Machida Room 101

Tel / Fax: 042-812-6453

 

〒242-0029

2-20-3 Kamisoyagi, Yamato, Kanagawa Prefecture

Tel: 046-408-0759

Fax: 046-207-8642

 

E-mail: info@bushclover.co.jp

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